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玻璃基板处理： 采用全自动等离子清洗系统对玻璃基板表面进行等离子体轰击，可有效去除有机污染物及微尘，显著增强材料表面的亲水性。经处理后，水接触角降至5°以下，为后续工艺步骤提供了优异的表面条件。
阳极界面修饰： 通过等离子体表面处理技术对氧化铟锡（ITO）阳极进行改性，能够调控其表面化学组成，显著降低方块电阻。该处理有助于提升光电器件的能量转换效率，进而优化其光伏性能。
保护膜沉积前处理： 硅片表面具有较高光反射率，会导致大量太阳光损失。为此，需在其表面沉积一层低反射率的氮化硅保护膜。利用等离子体增强化学气相沉积技术对硅片表面进行活化处理，可显著改善表面能态，增强薄膜附着力，为氮化硅层的均匀沉积创造有利条件。
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