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等离子清洗机PRODUCT

诚峰智造所提供的高性能等离子清洗机,在半导体、新能源及3C数码等领域具有广泛应用。该设备采用先进等离子体技术,能够有效实现材料表面的高效处理,从而显著增强产品表面的附着性能与洁净度。

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真空等离子清洗机

CRF-VPO-5L/10L真空等离子清洗机

诚峰智造CRF - VPO - 5L/10L的真空等离子清洗机,这种采用设计为真空腔体构造的等离子处理系统,因其特性适用于那类对处理环境秉持严格要求标准的精密制...

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产品详情

诚峰智造CRF - VPO - 5L/10L的真空等离子清洗机,这种采用设计为真空腔体构造的等离子处理系统,因其特性适用于那类对处理环境秉持严格要求标准的精密制造领域方面,该设备有着5升以及10升这两种不同的容量规格,对应的腔体尺寸分别是183×180×150mm和220×252×230mm,并且用户能够按照自身产能需求情况,来做出对单层或者多层电极配置的选择(其中5L规格支持1 - 2层而10L规格支持2 - 4层)。

设备所采用的乃是一种将PLC与触摸屏予以集成起来的控制系统,该系统的操作界面呈现出直观的特点,凭借它能够达成对于工艺参数进行精确设定以及存储这一目标;而电源系统则是以配置较为灵活的状态存在,支持从300W、500W、600W的13.56MHz射频电源或者600W、1000W的40KHz中频电源选项之中做出选择,此配置能够满足针对不同材料所开展的处理相关需求;另外,系统所配备的是两路相互独立的气体通道,对于氩气、氮气、氧气、四氟化碳等多种工艺气体可进行选用,以便实现像是表面活化、清洗、刻蚀等之类的不同工艺方面的效果。

CRF - VPO系列这一产品其应用场景涵盖了印制线路板领域(包括高频板活化以及多层板去钻污这些具体工艺方面)、半导体IC封装范畴(例如COB/COG/COF工艺前的清洗相关工作)还有硅胶/塑胶表面改性等领域,在这些场景中,由于其采用的是真空工艺环境,从而能够确保所达成的处理效果呈现出均匀且稳定的状态,并且该产品的设备具有结构紧凑的特性(像外形尺寸方面5L对应的是630×500×650mm ,10L对应的则为630×670×840mm ),同时设备还具备可选择性,即能够选配油泵或者干泵真空系统,目的在于满足不同行业针对洁净度所提出的要求。

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