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CRF - APO - RP5200的设备是一款基于大气压等离子技术所打造出来用于表面处理的设备，其能够在并不需要真空环境的情形之下就做到高效工作，该设备电源被...
CRF - APO - RP5200的设备是一款基于大气压等离子技术所打造出来用于表面处理的设备，其能够在并不需要真空环境的情形之下就做到高效工作，该设备电源被设定为220V/AC，其中等离子功率在范围是从0到800W并且能够进行调节，而频率方面则是处于25到30KHz之间，工作气源采用的是压缩空气与氮气所混合而成的气体，在处理高度范围这一块是从3到20mm，而且可以选择喷嘴宽幅为10到100mm的，其中涵盖了普通旋转式像15mm、20mm、30mm、50mm以及80mm等等的多种不同规格，这些都是为了能够去适应各种各样不同产品的表面处理需求而设置的。
具备小巧便携设计且支持In - Line式安装方式，进而能够灵活集成于现有自动化产线之中以达成节省空间与成本之效的设备，其内部控制模式，本地控制与I/O信号控制这两者皆给予支持，还设有多重检测功能及故障警报系统，像是针对短路、断路以及气压异常之类情况皆能进行检测处理，以此确保运行的稳定可靠。通过等离子体对材料表面实施清洁和活化操作的此设备，能有效达成去除污染物以及显著提升表面附着力与亲水性的目的，被广泛应用于电子行业中的印刷、涂覆、点胶前处理这类以及手机屏幕清洗及丝网印刷等工业领域方面。
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